随着晶圆日趋增大和关键尺寸的不断缩小，半导体制造过程的质量实时控制变得越发重要，这就对半导体生产企业提出了比以往更严格的制程控制要求。以往的统计制程控制（SPC）已经不能适应当前的质量控制要求，因而先进制程控制（APC）成为不可或缺的关键系统。

APC负责采集包括产品、工艺、设备、技术平台等相关的历史数据，实时调整生产工艺配方的参数，以达到控制制程质量的目的，从而提高产品良率。

上扬软件APC的特色包括：

– 根据生产的Raw Data前后量测数据，PM数据，使用指数加权滑动平均（EWMA）算法

– 支持TH，LT，CMP，ETCH生产工艺

– 支持ASML、Nikon、Canon、SMEE等主流光刻机设备

阿斯麦尔、尼康、佳能、上海微电子装备

灵活的算法构建模型，便于用户构建自己的生产应用场景。

上扬软件APC已经过多条半导体量产线的验证。